碳晶去污利用极低温的碳晶颗粒,喷向处理物,使处理物表面的污垢冷冻至脆化及爆裂,当碳晶料钻进污垢的裂缝后,随即气化,其体积瞬间膨胀近800倍,从而把污垢带离物体表面。碳晶除污过程中利用压缩空气作为动力,把碳晶粒射向处理物表面,但要达到清洗目的,并非单依赖强大风压,而是利用碳晶的低温性,因而当我们要清洁电子产品时,只需调低风压,便不会损害产品的结构,如若要清理顽固污垢时,我们亦可加强空气的压力,配合碳晶的冷冻特性,达到双管齐下的效果。
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